半导体行业专题研究（普通）：HBM3E量产在即，关注国产HBM突破和产业链受益

（以下内容从信达证券《半导体行业专题研究（普通）：HBM3E量产在即，关注国产HBM突破和产业链受益》研报附件原文摘录）
本期内容提要:
海外大厂HBM3E量产在即。（1）近日，美光宣布已开始量产其HBM3E高带宽内存解决方案。英伟达H200TensorCoreGPU将采用美光8层堆叠的24GB容量HBM3E内存，并于2024年第二季度开始出货。美光HBM3E引脚速率超过9.2Gb/s，提供超过1.2TB/s的内存带宽。与HBM3相比，HBM3E将数据传输速率和峰值内存带宽提高了44%。（2）三星发布首款36GBHBM3E12HDRAM，目前为三星容量最大的HBM。三星HBM3E12H支持全天候最高带宽达1280GB/s，产品容量也达到了36GB。相比三星8层堆叠的HBM38H，HBM3E12H在带宽和容量上大幅提升超过50%。相比HBM38H，HBM3E12H搭载于人工智能应用后，公司预计人工智能训练平均速度可提升34%，同时推理服务用户数量也可增加超过11.5倍。（3）SK海力士于1月中旬正式结束了HBM3E的开发工作，并顺利完成英伟达历时半年的性能评估，计划于3月开始大规模生产HBM3E产品，这批HBM3E将用于英伟达下一代Blackwell系列的AI芯片旗舰产品B100上，而英伟达则计划于2024年第二季度末或第三季度初推出该系列产品。
国内存储厂商入局HBM市场。根据采招网，近日，武汉新芯发布《高带宽存储芯粒先进封装技术研发和产线建设》招标项目，利用三维集成多晶圆堆叠技术，打造更高容量、更大带宽、更小功耗和更高生产效率的国产高带宽存储器（HBM）产品，推进多晶圆堆叠工艺产业化，新增生产设备约17台/套，拟实现月产出能力≥3000片（12英寸）。我们认为，国内存储厂商在HBM技术上的加速突破，有望在AI大浪潮的需求下提升竞争实力，相关产业链也或将受益。
AI浪潮驱动，HBM先进封装、设备材料产业链环节持续受益。HBM制造工艺包括TSV、Bumping和堆叠等工艺环节。HBM是由多个DRAMdie堆叠而成，利用硅通孔（TSV）和微凸块（Microbump）将die之间相连接，多层DRAMdie再与最下层的Basedie连接，然后通过凸块（Bump）与硅中阶层（interposer）互联。HBM与GPU、CPU或ASIC共同铺设在硅中阶层上，通过CoWoS等2.5D封装工艺相互连接，硅中介层通过CuBump连接至封装基板（PackageSubstrate）上，最后封装基板再通过锡球与下方的PCB基板相连。根据全球半导体观察，目前HBM存储芯片的整体良率在65%左右，HBM良率的高低主要受到其堆叠架构复杂性的影响，这涉及到多层次的内存结构和作为各层连接之用的直通TSV技术。这些复杂技术增加了制程缺陷的风险，可能导致良率低于设计较简单的内存产品。因此存储大厂纷纷加码HBM先进封装，提升HBM良率并降低功耗。此外，根据CFM，SK海力士拟将新一代HBM4堆栈直接放置在处理器上，通过3D堆叠的形式进一步提高I/O数量。
投资建议：受益于AI算力需求的强劲推动，HBM或将成为存储芯片市场复苏的主要驱动力，同时国内存储厂商也加速产品布局和技术突破，相关产业链上下游的厂商有望加速受益，建议关注：（1）存储：江波龙、德明利、兆易创新、东芯股份等；（2）先进封装：通富微电、长电科技、深科技等；（3）代理：香农芯创等；（4）设备和材料：北方华创、中微公司、赛腾股份、雅克科技等。
风险因素：下游需求不及预期风险；国内技术研发不及预期风险；中美贸易摩擦加剧风险。