ALD 技术领军企业，聚焦光伏与半导体公司专注于ALD 技术，引领国内ALD 技术的发展应用。公司为国内首家将ALD 技术规模化应用于光伏领域，也是国内首家成功将量产型High-k 原子层沉积设备应用于28nm 节点集成电路制造前道生产线的设备公司，并不断在泛半导体领域拓展产品应用外延。
2021 年度和2022 年前三季度公司营收分别为4.28 亿元、3.85 亿元，归母净利润分别为4,611.37 万元、-325.47 万元，截至2022 年9 月末，公司已取得在手订单19.75 亿元。公司前期研发投入高，新产品开拓初期的毛利率有一定影响，规模效应有望带来利润加速回升。
光伏：立足ALD，新型电池技术全面布局 PERC：公司量产设备镀膜速率突破10,000 片/小时，打破制约ALD技术应用于光伏领域的产能限制。2018 年、2019 年公司PERC 电池背钝化设备装机容量市占率分别为41.16%、48.41%。
TOPCon：（1）ALD 设备在TOPCon 电池正面氧化铝工艺中，可沉积超薄的、高深宽比的膜层，更适应正面镀钝化膜的复杂形貌，首先取得较高市占率。（2）公司开发的PEALD 二合一平台，集成了PEALD 和PECVD 两种工艺，分别用于制备隧穿层和多晶硅层，有望受益于TOPCon 路线持续扩产。
IBC：由于平台化技术特征，IBC 可以和HJT、TOPCon 技术结合，电池制备工艺更为多变。其中，ALD 设备在钝化层的制备中具有重要地位，且需求量往往更高。
HJT：公司PECVD 技术可以应用于本征非晶硅层沉积，ALD 设备也储备用于TCO 层沉积。
钙钛矿：ALD 具有衬底温度较低、可精确控制膜厚、大面积生长、薄膜均匀性好、三维保形性好等特点，在TCO等功能层、缓冲层和封装中都具备广泛的应用条件。公司根据下游客户需求进行相应储备。
半导体：ALD 技术中的国产替代先行者随着我国半导体设备市场需求量增长及国产化率提升，国产ALD设备市场空间不打断开， 带来领先ALD 设备公司机会。我们预计2022/2023/2024 我国国产ALD 设备规模分别为5.21/6.26/9.59 亿元，yoy+37.42%/20.15%/53.38%。
公司ALD技术在泛半导体的各细分领域深度拓展。在逻辑芯片领域，公司为国产首家突破28nm 制程 High-k 材料沉积技术；在存储芯片领域，公司ALD 技术可以用于3D NAND、铁电存储 （FeRAM）等先进存储技术领域；在新型显示领域，公司的ALD 设备布局OLED/mini LED 等领域，不断拓宽应用外延。
盈利预测、估值及投资评级我们预测公司2022-2024 年营业收入分别为6.02/16.68/22.15 亿元，归母净利润分别为0.31/1.26/2.59 亿元，2021-2024 年归母净利润CAGR为78%，以当前总股本4.54 亿股计算的摊薄EPS 为0.07/0.28/0.57 元。
公司当前股价对2022-2024 年预测EPS 的PE 倍数分别为463/113/55倍，我们选取光伏及半导体领域镀膜设备领军公司作为可比公司，考虑到公司在ALD 领域具有领先优势，且在光伏及半导体领域拓展具备较大业绩弹性，首次覆盖给予“增持”评级。
风险提示1）光伏及半导体行业后续扩产不及预期的风险。2）技术迭代带来的创新风险。3）国内市场竞争加剧的风险。4）核心技术人员流失或不足的风险。5）测算市场空间的误差风险。6）研究依据的信息更新不及时，未能充分反映公司最新状况的风险。
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