证券之星消息,近期中微公司(688012)发布2025年前三季度财务报告,报告中的管理层讨论与分析如下:
发展回顾:
公司站在先进制程工艺发展的最前沿,坚持技术的创新、产品的差异化和知识产权保护的基本原则。坚持原创的设计,和国际领先的半导体客户公司同步前行。公司目前在研项目涵盖六类设备,超二十款新设备的开发。公司研发新产品的速度显著加快,过去通常需要三到五年开发一款新设备,现在只需两年或更短的时间就能开发出有竞争力的新设备,并顺利进入市场,公司有望在未来几年加速、大规模地推出多种新产品。
公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升,先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件的超高深宽比刻蚀工艺实现大规模量产。其中CCP方面,公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长,60比1超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备,量产指标稳步提升,下一代90比1超高深宽比介质刻蚀设备即将进入市场;ICP方面,适用于下一代逻辑和存储客户用ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展。加工的精度和重复性已达到单原子水平。公司为先进存储器件和逻辑器件开发的LPCVD、ALD等多款薄膜设备已经顺利进入市场,并且设备性能完全达到国际领先水平,薄膜设备的覆盖率不断增加。公司硅和锗硅外延EPI设备已顺利运付客户端进行量产验证,并且获得客户高度认可。在泛半导体设备领域,公司正在开发更多化合物半导体外延设备,已陆续付运至客户端开展生产验证。
公司2025年前三季度(1-9月)营业收入为80.63亿元,同比增长约46.40%。其中刻蚀设备收入61.01亿元,同比增长约38.26%;LPCVD和ALD等薄膜设备收入4.03亿元,同比增长约1332.69%。
2025年前三季度(1-9月)归属于上市公司股东的净利润为12.11亿元,较上年同期增长约2.98亿元,同比增长约32.66%,主要原因为:(1)2025年前三季度营业收入增长46.40%下,毛利较上年增长约8.27亿元;(2)由于市场对中微开发多种新设备的需求急剧增长,2025年公司显著加大研发力度,以尽快补短板,实现赶超,为持续增长打好基础。2025年前三季度公司研发支出较上年同期增长9.79亿元(增长约63.44%),研发支出占公司营业收入比例约为31.29%,远高于科创板均值;(3)由于市场波动,公司2025年前三季度计入非经常性损益的股权投资收益为3.29亿元,较上年同期增加约2.75亿元。
2025年前三季度(1-9月)归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润约8.87亿元,较上年同期增加0.74亿元(增长约9.05%),主要由于营业收入增长下毛利增加8.27亿元,以及研发费用较上年同期增加8.80亿元。
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