2024年报预告点评：营收持续高增，平台化布局加速

（以下内容从东吴证券《2024年报预告点评：营收持续高增，平台化布局加速》研报附件原文摘录）
中微公司(688012)
投资要点
营收持续增长，净利润同比下滑主要受投资收益减少、研发投入高增等影响：公司预计2024年实现收入90.7亿元，同比+44.7%；其中刻蚀设备销售约72.8亿元，同比+54.71%，MOCVD设备销售约3.8亿元，同比-18.1%，LPCVD薄膜设备2024年实现销售约1.56亿元。营收显著增长主要得益于公司高端刻蚀设备付运量显著提升，LPCVD、ALD等新产品形成重复订单，其中LPCVD2024年累计出货超100个反应台。公司预计实现规模净利润15.0-17.0亿元，同比下降16.0-4.8%，主要系公司研发投入显著增加，研发支出同比+94.1%，以及2023年同期基数较高（公司出售拓荆科技股权收益4.06亿元）；预计期间扣非净利润为12.8-14.3亿元，同比+7.4%-20.0%。2024Q4公司预计实现收入35.6亿元，同比+73.0%；归母净利润5.9-7.9亿元，同比-6.2%至+25.7%，归母净利润中值为6.9亿元，同比+9.7%；扣非净利润4.7-6.2亿元，同比+2.0%至+34.7%，扣非净利润中值为5.4亿元，同比+17.9%。
Q4盈利能力受研发投入高增影响有所下降：24Q4公司营收和毛利润预告对应的毛利率为42.8%，同比-3.0pct/环比-0.9pct；营收和归母净利润预告中值对应的归母净利率为19.4%，同比-8.7pct/环比+0.2pct；营收和扣非净利润预告中值对应的扣非净利率为15.2%，同比-5.4pct/环比-0.8pct。
刻蚀产品持续领先，镀膜产品拓展顺利：（1）CCP设备：在逻辑领域已对28nm以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28nm及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖，且已有大量机台进入国际5nm及以下逻辑；截止2024Q3已交付3800个反应台。在存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60：1深宽比结构的能力，成功进入2D&3D存储芯片产线。同时，公司积极布局超低温刻蚀技术，积极储备≥90:1深宽比刻蚀技术。（2）ICP设备：Primo Nanova®ICP在客户端安装腔体数量近三年CAGR超70%，在先进逻辑芯片、DRAM和3D NAND产线验证推进顺利并取得客户批量订单。公司的TSV刻蚀设备也已应用于先进封装。此外，公司正在研发用于5-3nm逻辑芯片的ICP刻蚀机。（3）MOCVD设备：积极布局第三代半导体设备，现已在LED等GaN基设备市场占据领先地位，并在Micro-LED领域的MOCVD设备开发上取得良好进展。用于SiC器件的外延设备已付运样机至国内领先客户开展验证测试。（4）薄膜沉积设备：公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估，已通过客户现场验证，并获得客户重复量产订单，公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备也在稳步推进；EPI设备也已完成多家先进逻辑器件与MTM器件客户的工艺验证，并获得了客户的高度认可。
成立成都子公司，大力发展CVD、ALD等关键设备研发与生产：公司计划于2025-2030年期间投资约30.5亿元成立成都子公司，建设研发中心、生产基地及配套设施。该项目将主要用于开展CVD、ALD及其他关键设备的研发与生产工作，预计2030年年销售额将达10亿元。
盈利预测与投资评级：我们维持公司2024-2026年归母净利润预测分别为16.8/24.3/34.0亿元，当前市值对应动态PE分别为35/26/20倍。基于公司较高的成长性，维持“买入”评级。
风险提示：晶圆厂扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期等。