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苏大维格获得实用新型专利授权：“光学成像纹理结构”

来源：证券之星企业动态 2025-03-18 03:00:39

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示苏大维格（300331）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“光学成像纹理结构”，专利申请号为CN202420465866.9，授权日为2025年3月18日。

专利摘要：本实用新型提供光学成像纹理结构，包括微纳浮雕结构区和微纳镭射结构区，所述微纳浮雕结构区的浮雕凸起和所述微纳镭射结构区的镭射凸起21均在预设范围内周期性排布，所述微纳镭射结构区沿所述微纳浮雕结构区的周沿布置，所述浮雕凸起的周期沿靠近所述微纳镭射结构区的方向逐渐减小，目的在于使浮雕效果和镭射效果之间过渡自然，形成自然的自然生物仿真效果。

今年以来苏大维格新获得专利授权9个，较去年同期增加了350%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6693.39万元，同比增11.68%。

数据来源：天眼查APP

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