捷佳伟创获得实用新型专利授权：“一种硅片镀膜载具清洗设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种硅片镀膜载具清洗设备”，专利申请号为CN202421351113.1，授权日为2025年5月16日。

专利摘要：本实用新型公开了一种硅片镀膜载具清洗设备，包括内部设置有反应腔室的清洗设备本体、第一清洗系统、第二清洗系统和抽气机构，第一清洗系统包括第一连通口、第一排气口和第一等离子体发生器；第二清洗系统包括第二连通口、第二排气口和第二等离子体发生器；其中，启动第一清洗系统进行清洗时，抽气机构单独通过第一排气口抽取反应腔室内部的气体；启动第二清洗系统进行清洗时，抽气机构单独通过第二排气口抽取反应腔室内部的气体。通过采用上述的结构，使得等离子体能够沿着相反的方向流动并反复对硅片镀膜载具清洗，有效解决了现有的硅片镀膜载具干法清洗设备在清洗过程中局部清洗不均匀、死角清洗不到位的技术问题。

今年以来捷佳伟创新获得专利授权43个，较去年同期增加了43.33%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了6.49亿元，同比增38.94%。

数据来源：天眼查APP

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