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平台化半导体设备龙头,受益于下游资本开支扩张&国产化率提升

来源:东吴证券 作者:周尔双,李文意 2026-01-04 19:40:00
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(以下内容从东吴证券《平台化半导体设备龙头,受益于下游资本开支扩张&国产化率提升》研报附件原文摘录)
北方华创(002371)
投资要点
看好先进逻辑&存储加速扩产:晶圆厂扩产方面,我们预计2026-2027年内资晶圆厂资本开支持续扩张。1)逻辑端:中芯国际自2023年起产能利用率稳步提升,2025Q3已升至95.8%;国内厂商先进逻辑工艺陆续突破,有望加速落地先进制程产能。2)存储端:2024年全球NAND/DRAM存储器市场中,我国长江存储&长鑫存储市占率分别仅为5/5%,后续仍待突破,我们预计2026年长江存储与长鑫存储合计新增10–12万片/月产能,重点聚焦于3D NAND与HBM制程,投资总额有望达155–180亿美元。根据SEMI预测数据,2026-2027年全球晶圆厂设备支出约8827/9471亿元,分别同比增长9/7%。叠加自主可控需求,我们预计2026-2027年中国大陆晶圆厂设备销售额将达4414/4736亿元,分别同比+21/7%。
海外限制不断收紧,半导体设备国产替代诉求迫切:美日荷持续强化对先进制程设备出口限制,国内晶圆厂在自主可控导向下加快国产设备导入进程。2024年中国大陆半导体设备销售额达495亿元,全球占比42%,连续四年为全球第一大设备市场。我们预计2025年半导体设备国产化率提升至22%,其中刻蚀、清洗、CMP等环节已实现阶段性突破,光刻、薄膜沉积、检测、涂胶显影等高端环节国产化率仍低于25%,替代空间广阔。
内生+外延不断拓展公司产品线,彰显半导体设备龙头地位:作为国产半导体设备领军者,公司持续受益设备国产替代+产品线延展。1)刻蚀设备:我们预估2027年中国大陆半导体干法刻蚀设备市场规模达到895亿元。公司在ICP领域主导国内市场,同时积极布局CCP领域,市占率持续提升,高深宽比刻蚀取得率先突破。2)薄膜沉积设备:我们预估2027年中国大陆半导体薄膜沉积设备市场规模将达1089亿元。公司PVD市场竞争力显著,持续拓展CVD、ALD等产品系列,已跻身国内第一梯队,不断打开成长空间。3)Track设备:我国涂胶显影市场规模2025年有望达143.7亿元、2025台。芯源微是国内首家具备量产交付能力的企业,公司通过获得芯源微控股权填补Track产品空白,有望充分受益于Track国产替代进程。4)热处理设备:我们预计2027年中国大陆热处理设备市场规模约为210亿元,公司已具备较强市场竞争力,25H1该业务收入10亿元。5)清洗设备:我们预计2027年中国大陆市场规模约243亿元,公司收购Akrion完善清洗设备产品线,产品体系不断完善,已成功覆盖槽式、单片清洗设备。6)其他:公司积极拓展离子注入机、电镀设备等品类,平台化布局持续深入。
盈利预测与投资评级:考虑到公司2025-2027年集中进行研发投入&股权激励费用影响,我们预计2025-2027年归母净利润分别为58.43(原值65.1)/77.52(原值88.0)/102.34(原值110.9)亿元,分别同比+4%/+33%/+32%。当前股价对应动态PE分别为57/43/33倍,考虑到公司平台化布局持续推进,龙头地位加强巩固,维持“买入”评级。
风险提示:半导体行业投资不及预期、设备国产化不及预期、海外限制加剧风险





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