电子行业点评报告：Nvidia产业链·计算光刻：持续推动光刻工艺突破_股票频道

（以下内容从浙商证券《电子行业点评报告：Nvidia产业链·计算光刻：持续推动光刻工艺突破》研报附件原文摘录）
投资要点
NVIDIA于2023年开发者大会推出专为计算光刻开发的软件库cuLitho，根据英伟达信息，通过使用光刻计算库cuLitho，计算光刻速度将提升40倍，GPU加速后生产光掩模的计算光刻工作用时可以从几周减少到八小时，与此同时，功耗降低9倍，光刻计算使2nm及更先进芯片的生产成为可能。
计算光刻：解决衍射像差、增强光刻分辨率的核心方法之一。
光刻是通过曝光、显影、刻蚀等技术将掩膜版上的图案转移至晶圆的图形精细加工技术，随着光刻及芯片设计制造技术发展，晶圆上晶体管的互联间距缩小，当晶体管的尺寸变得比光刻机所用波长近似或还要小的时候，由于衍射效应的存在晶体管成像就会变得模糊。计算光刻便是增强分辨率解决方法之一。计算光刻属于EDA的一种，用于晶圆制造环节，具体而言就是通过计算机模拟、仿真光刻中的光学和化学过程，预测晶圆上的曝光图形，在半导体制程的开发阶段提供光源优化、掩模版图形修正、缺陷的预判和修正方案分析，通过增大芯片制造工艺窗口从而提高产品良率和生产效率。对于90nm以下节点，必须采用计算光刻技术来提升光刻系统的成像性能，否则将无法实现集成电路量产。因此，计算光刻是支撑光刻工艺节点不断推进的关键电子设计自动化（EDA）仿真技术。
cuLitho：NVIDIA发布专用软件库，光刻/掩模版生产效率升级。
随着晶圆制程微缩程度持续提升，掩膜板复杂度随之变高，对数据存储、计算光刻的需求同样也将快速提升，Foundry厂现有算力不足以支撑新的芯片技术，预计未来Foundry对算力的需求会大幅提升，与先进晶圆厂配套的数据中心需求同样快速成长。英伟达与台积电、ASML、新思科技三大半导体巨头合作，将加速运算技术用于芯片光刻的计算光刻中，制造同样的芯片，从在CPU上运行变为在GPUcuLitho上运行，时间从两周变为了8h，效率提高了21倍，cuLitho软件库允许500个基于DGXH100GPU的数据中心系统执行与4万个基于CPU的系统相同的工作，可将计算光刻的速度提升40倍，即意味着GPU加速后，生产光掩模的计算光刻工作用时可以从几周减少到八小时。从能耗方面考虑，cuLitho软件库在计算光刻的速度提升40倍的同时功耗降低9倍，将功率从35MW减少至5MW，将减少对电力和空间需求以及对环境的影响。
英伟达：算力算法双轮驱动AI行业发展，供应链有望充分受益。
英伟达作为全球GPU龙头企业，在计算芯片硬件领域一家独大，同时在软件端，英伟达针对生物制药、化学、气候预测、量子计算等领域同样会发布一些中间件和库，在专用算法方面同样具备优势。我们认为，cuLitho软件库能推动晶圆厂、掩模版厂以及EDA企业在光刻工艺进一步提升效率并更好地协同发展，建议关注晶圆制造、掩模版、EDA等领域的计算光刻产业链相关企业。
相关标的：英伟达（NVDA.O）、阿斯麦（ASML.O）、台积电（TSM.N）、新思科技（SNPS.O）。
风险提示
宏观经济不及预期；下游终端复苏不及预期；国产替代进程不及预期；中美贸易摩擦升级风险。