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拓荆科技点评报告:2022H1业绩超预期,薄膜沉积设备龙头高速成长

来源:浙商证券 作者:蒋高振,王华君 2022-08-30 00:00:00
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事件:

公司发布2022年半年报,上半年实现营收5.23亿元,同比增加365%;归母净利润1.08亿元,扣非归母净利润0.49亿元,均实现同期扭亏为盈。二季度实现营收4.2亿元,同比增加658%;归母净利润1.2亿元,扣非归母净利润0.71亿元,均实现同期扭亏为盈。

营业收入取得突破,盈利能力不断提升,合同负债及存货高增

公司积极把握产业需求拉动所带来的市场机遇,上半年实现营收5.23亿元,同比增加365%。主营业务中PECVD/SACVD/ALD分别实现收入4.67/0.41/0.08亿元,核心产品 PECVD设备收入较上年同期增长345%,ALD、SACVD设备实现收入突破。受益于收入大幅提升,公司盈利能力大幅提升。2022年上半年毛利率/净利率分别为46.8%/20.4%,同比+ 8.4pct/+38.6pct。2022Q2单季度毛利率/净利率分别为46.6%/28.7%,同比-0.53pct/+46.8pct,环比-0.85pct/40.4pct。2022H1末,公司合同负债10.87亿元,较2021Q4末增加5.99亿元;存货为15.63亿元,较2021Q4末增加6.10亿元,公司增长提速,经营趋好。

持续保持较高的研发投入,持续拓展三大产品应用领域,积极布局新产品研发

公司高度重视研发,上半年研发投入1.18亿元,同比提升45.7%。报告期内公司三大核心产品线不断取得突破:1)PECVD NF-300H(六站式)设备在DRAM存储芯片制造领域实现首台产业化应用。2)SACVD设备在12英寸40/28nm 以及 8英寸90nm以上的逻辑芯片制造领域已实现广泛应用。3)ALD PF-300T(双站式)设备已完成产品开发并取得客户订单。公司积极布局新产品,在CVD细分领域内开发了TS-300(多边形高产能平台)、基于高产能平台的热处理原子层沉积(Thermal-ALD)、高密度等离子增强化学气相沉积(HDPCVD)设备和紫外线固化处理(UV Cure)设备等新产品,均取得客户订单。 ?

薄膜沉积设备龙头,受益于薄膜沉积设备市场扩容及国产替代机遇

公司目前是国内薄膜沉积设备龙头,客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂。随着全球及我国半导体设备市场快速增长、芯片工艺进步及结构复杂化,薄膜设备需求不断提高。国内晶圆厂扩产加快,8月26日中芯国际公告投资75亿美元建设12英寸晶圆代工生产线项目,规划产能10万片/月,覆盖28-180nm不同技术节点。公司作为国内半导体薄膜沉积设备龙头将优享设备国产化带来的红利。

? 盈利预测及估值公司作为国内半导体薄膜沉积设备龙头,在国内晶圆产线持续扩充的背景下,将 优享设备国产化带来的红利,稳健预计公司未来三年营收分别为15.54/22.44/30.19亿元,同比增长105.15%/44.32%/34.57%;实现归母净利润2.15/3.60/5.48亿元,同比增长213.29%/67.98%/52.09%,考虑到公司产品布局完善、产品力优秀、行业龙头地位显著,叠加下游晶圆厂持续扩产以及设备国产化趋势,我们认为中长期来看公司仍具备广阔成长空间。 ?

风险提示

晶圆厂扩产进展不及预期风险;技术研发不及预期风险;产品验收周期较长的风险;市场竞争风险





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