投资要点:公司自成立以来专注于薄膜沉积设备的研发,形成PECVD、ALD、SACVD三大设备系列产品,广泛应用于国内主流晶圆厂产线,打破了国际厂商的垄断。
PECVD设备:国内唯一实现产业化应用,业绩有望持续高增长2020年PECVD设备市场规模约57亿美元,在薄膜沉积设备市场中占比最高,约33%。从供给来看,市场主要被国际巨头AMAT、LAM、TEL垄断,国内仅拓荆科技生产。公司是国内唯一实现PECVD设备的供应商,深耕薄膜沉积设备行业十余载,PECVD设备业务逐渐进入收获期,2020年营收为4.18亿元,占全球市场1%左右;2021年营收6.75亿元,同比增长61.39%,随着国内晶圆厂的扩产加速,公司业绩有望维持高增长。
ALD、SACVD设备:首台套相继出货,终端验证进展有望提速2020年全球ALD设备市场规模约19亿美元,随着半导体先进制程产线数量增加,预计2026年市场规模约为32亿美元。从竞争格局来看,TEL、ASM合计占比约60%,而国内企业布局相对较慢,几无营收贡献。SACVD设备具有较高的填沟能力,应用于高深宽比薄膜沉积工艺中,目前国内仅公司实现产业化应用。拓荆积极布局ALD、SACVD设备,并于2018年确认首台ALD设备收入,2021年确认首台SACVD设备收入,随着研发进展顺利,终端验证有望提速。
盈利预测、估值与评级预计公司2022-24年营业收入分别为13.39/19.79/26.93亿元,增速分别为76.68%/47.75%/36.09%,三年CAGR为52.59%;实现净利润1.45/2.97/4.41亿元,增速分别为112%/105%/49%,三年CAGR为86.10%;实现EPS为每股1.15/2.35/3.49元。根据DCF估值,我们认为公司的合理股价区间为166.53-340.91元;同时结合可比公司2022年平均PS为16倍,考虑到公司是国内PECVD设备龙头,业绩处于快速增长初期,我们给予公司2022年20倍PS,目标价为211.76元,首次覆盖,给予“增持”评级。
风险提示:晶圆厂扩产不及预期;新品研发不及预期;部分原材料外购受限引发的风险。