半导体行业深度报告：复盘ASML发展历程，探寻本土光刻产业链投资机会

光刻机:芯片制造中最核心设备,复杂程度高,形成庞大产业链。光刻环节是晶圆制造中最核心工艺,占晶圆制造耗时40%-50%,占芯片成本30%。作为光刻工艺的核心设备,光刻机结构复杂、成本极高,占晶圆制造设备投资23%。

区别于其他晶圆制造设备,浸没式DUV和EUV光刻机可形成自身产业链,因此高端光刻机的突破需要物镜、光源、浸没式系统等核心组件和光刻胶、光刻气、光罩、涂胶显影设备、检测设备等诸多配套设施的协同发展。

ASML:浸没式系统和EUV光刻成为公司发展史上两大关键里程碑。ASML垄断全球高端光刻市场,浸没式DUV全球市占率达93%,EUV全球市占率达100%。2019年,ASML收入132.4亿美元,净利润29.0亿美元,收入排名全球半导体设备厂商第二。复盘其三十余年历史,浸没式工艺技术的突破和EUV产业链的贯通成为ASML打败尼康等日本厂商的两大关键性节点。

打通光刻产业链成为国产光刻机追逐ASML的关键。ASML有大约5000个供应商,与产品直接相关的共790家,占ASML总开支的66%,其中德国蔡司、美国Cymer等厂商几乎垄断全球高端物镜、极紫外光源等技术。受《瓦森纳协议》等国外技术管制影响,国产高端光刻机无法像ASML一样通过全球合作、并购突破,只能依托本土光刻组件和配套设施产业链自主研发实现突破。

02专项强化国内光刻产业链发展,高端光刻机突破在即:在“02专项”的大力支持下,国科精密、启尔机电、华卓精科纷纷在物镜、浸没式系统和双工作台上通过02专项验收,福晶科技部分产品供货ASML。配套设施方面,华特气体、凯美特气实现光刻气突破,南大光电、晶瑞股份、雅克科技等纷纷布局中高端光刻胶及辅材,清溢光电,菲利华打破光罩领域国外垄断,精测电子、睿励科学、赛腾股份实现晶圆前道检测设备国产替代,芯源微涂胶显影设备入驻长江存储、华力等先进晶圆厂。在国内光刻产业链不断完善和突破下,预计上海微电子90nm以内的下一代光刻机突破在即。

关注个股:光刻产业链组件推荐福晶科技(002222),建议关注国科精密、启尔机电、华卓精科、科益虹源等02专项支持企业研发进度;光刻胶建议关注南大光电(300346)、晶瑞股份(300655)、雅克科技(002409)、上海新阳(300236)、容大感光(300576)、北京科华等;涂胶显影设备建议关注芯源微(688037),前道检测设备推荐精测电子(300567),建议关注睿励科学、赛腾股份(603283);光刻气建议关注华特气体(688268)、凯美特气(002549);光罩建议关注清溢光电(688138)、菲利华(300395)。