拓荆科技预计2024年营收同比增逾四成 出货创公司历史年度新高

（原标题：拓荆科技预计2024年营收同比增逾四成 出货创公司历史年度新高）

拓荆科技(688072)1月20日晚披露2024年年度业绩预告，经财务部门初步测算，预计公司2024年年度实现营业收入40亿元至42亿元，与上年同期相比增加12.95亿元至14.95亿元，同比增长47.88%至55.27%。

拓荆科技是国内量产型PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高密度等离子体增强化学气相沉积）、超高深宽比沟槽填充CVD等薄膜沉积设备和混合键合设备的领军企业。拓荆科技目前已经形成半导体薄膜沉积设备和混合键合设备两个产品系列。拓荆科技聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。 

我国近年来在半导体设备领域发展较快，但高端半导体设备自给率仍较低，这也为包括拓荆科技在内的国内半导体设备厂商的发展提供了巨大的成长机遇。

拓荆科技预计2024年年度营业收入较上年同期有较大增幅的主要原因是，公司作为国内高端半导体设备领域的领军企业，继续专注于薄膜沉积设备和混合键合设备的自主研发与产业化，凭借在产品技术创新、客户资源、售后服务等方面的核心竞争优势，PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD（Flowable CVD）及混合键合设备等系列产品量产规模不断扩大，持续获得客户订单，公司业务规模呈现快速增长趋势。2024年度，公司出货超过1000个设备反应腔，创公司历史年度新高。

另外，公司在2024年度持续保持高强度的研发投入，坚持自主创新，在推进新产品研发、产品产业化和各产品系列迭代升级的过程中取得了重要成果，包括Flowable CVD设备、PECVD Bianca工艺设备、PE-ALD SiN工艺设备、HDPCVDFSG、HDPCVD STI工艺设备、键合套准精度量测设备等一系列新产品及新工艺经下游用户验证导入，实现了产业化，同时，新型设备平台PF-300M、PF-300TPlus及新型反应腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工艺设备顺利通过客户验证，并取得客户重复订单，实现大批量出货，进一步提升了公司产品性能及核心竞争力，助力公司收入稳步增长。

据证券时报记者了解，目前，拓荆科技成熟产品的核心技术及关键性能指标均已达到国际同类设备先进水平，并在客户端广泛应用，这与拓荆科技不断加大力度推进产品研发及产业化密不可分。

2021年至2023年，拓荆科技研发投入分别为2.88亿元、3.79亿元和5.76亿元，研发投入在营业收入中的占比分别为38.04%、22.21%和21.29%。2024年前三季度，拓荆科技研发投入4.81亿元，同比增长35.73%。

截至2024年6月30日，拓荆科技累计申请专利1279项（含PCT）、获得专利402项。其中，拓荆科技今年上半年新增申请专利74项（含 PCT）、新增获得专利45项。

拓荆科技此前在接受证券时报记者采访时表示，随着公司先进产品陆续推出，公司业务规模逐步扩大，产品布局逐渐完善，客户认可度持续攀升，产品已成功应用于行业领先集成电路制造企业产线，设备出货量大幅增加。