截至2026年8月17日收盘，国林科技(300786)报收于16.58元，上涨4.8%，换手率6.3%，成交量9.22万手，成交额1.5亿元。
投资者： 国林半导体是2021年成立的，2022年就开始进行臭氧发生器的送样验证。结果，到2026年公司最新回复，贵司薄膜沉积的干法臭氧发生器还在下游设备商验证中。而2025年才成立的山东志伟环保旗下的华龙半导体，昨天已经官宣：华龙干法臭氧发生器已在国内 8英寸、12英寸晶圆产线实现批量落地应用，运行性能、工艺稳定性、洁净指标对标进口设备水平，完成半导体臭氧设备国产化替换。请问为何进度差距这么大？
董秘： 尊敬的投资者，您好。半导体设备验证周期受应用场景、下游客户、工艺指标、考核标准等多重因素影响，不同厂商产品应用场景、考核节点存在差异，行业信息请多方甄别，注意投资风险。感谢您的关注。
投资者： 您好哈，乙醛酸和甲酸钾亏损原因是因为啥
董秘： 尊敬的投资者，您好。新疆国林新材料亏损主要系受行业景气度及下游低端市场竞争加剧的影响，产品整体的售价相对较低。具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。
投资者： 您好哈，究竟乙醛酸产品赚钱着不？还是说副产甲酸钾是不是亏损的？
董秘： 尊敬的投资者，您好。新疆国林新材料亏损主要系受行业景气度及下游低端市场竞争加剧的影响，产品整体的售价相对较低。具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。
投资者： 工信部日前《关于开展2026年工业和信息化领域创新任务揭榜挂帅工作的通知》，其中未来产业方向设置原子级制造技术专题。而其中攻关任务就包含“用于多元氧化物原子级制备的原子层沉积装备”。当前主流科研共识，臭氧是用于多元氧化物原子级制备的重要媒介，臭氧基原子层沉积技术，能实现面向三维薄膜材料集成与性能调控，尤其是高深宽比结构下多元氧化物制备。请问公司作为ALD臭氧技术设备的国内代表，如何看待上述机遇？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司将积极把握市场机遇，提升产品市场竞争力。感谢您的关注。
投资者： 最近大家都在说半导体臭氧水发生器是面向先进制程、先进封装清洗的必选项，请问公司到底是不是真的必选项？是否现在的下游主流先进清洗设备的核心系统之一就是半导体臭氧水发生器？
董秘： 尊敬的投资者，您好。半导体专用臭氧水发生器属于先进制程、先进封装清洗领域的可选工艺方案，并非全场景必选项。其是否配置由整机厂商、晶圆厂结合工艺、污染物类型综合选定。行业技术迭代较快，敬请理性看待市场传闻，注意投资风险。感谢您的关注。
投资者： 请问公司，为什么在贵司年报里的产品介绍中，贵司单台半导体级臭氧发生器是用作ALD，而集成4台臭氧发生器的半导体级臭氧气体输送系统又是用作ALE，这同样都是臭氧发生器，为何具体作用不一样？能否解释一下吗？
董秘： 尊敬的投资者，您好。ALD、ALE 均会使用臭氧作为反应气源，二者工艺原理不同。单台臭氧发生器侧重为 ALD 提供稳定臭氧气源；ALE 工艺对臭氧通量、供气连续性要求更高，因此采用多台集成的输送系统配置，通过多机组协同满足 ALE 工艺工况需求，设备硬件本体同源，应用差异源于下游工艺工况不同。感谢您的关注。
投资者： 公司DIW超纯水设备中，臭氧超纯水设备、二氧化碳超纯水设备、氨水超纯水设备各自的主要功能及使用场景有何不同？
董秘： 尊敬的投资者，您好。高浓度臭氧水发生器可替代传统SC1/SC2化学清洗药液，用于晶圆表面颗粒杂质、金属离子、原生氧化层、有机污染物剥离清洗，减少化学药剂及危废排放，适配先进制程低污染清洗需求；二氧化碳水发生器可抑制静电产生，消除硅屑静电吸附，避免静电损伤与微粒吸附，可应用于封测、显示、光伏硅片加工产线；氨水发生器可应用于晶圆颗粒清洗、氧化层调控制成，适配芯片、先进封装、功率半导体各类湿法产线。感谢您的关注。
8月17日主力资金净流入1.67万元，占总成交额0.01%；游资资金净流出65.42万元，占总成交额0.44%；散户资金净流入63.75万元，占总成交额0.42%。
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