兴福电子获得发明专利授权：“一种去除聚酰亚胺蚀刻后残留物的清洗液”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种去除聚酰亚胺蚀刻后残留物的清洗液”，专利申请号为CN202411385200.3，授权日为2026年7月28日。

专利摘要：本发明公开了一种去除聚酰亚胺蚀刻后残留物的清洗液。清洗液主要成分为0.1％?5％氟化氢铵、0.1％?2％磷酸、0.01％?2％表面活性剂、1％?10％抑制剂、10％?65％有机溶剂以及余量水；反应活性物质为氟化氢铵与磷酸，在其协同作用下将蚀刻后残留物转化为易溶物；表面活性剂的使用可以有效降低清洗液与晶圆两相间界面张力，提高界面反应活性；抑制剂控制金属和介质层的腐蚀速率；有机溶剂和水作为主要溶剂，增强对蚀刻后残留物的清洗能力。本发明的清洗液，对聚酰亚胺无渗透，对介质层蚀刻速率低，对光刻胶、蚀刻后残留物清洗性能佳，使用寿命长，无化学损害风险。

今年以来兴福电子新获得专利授权41个，较去年同期增加了86.36%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了9291.33万元，同比增20.79%。

通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目244次；财产线索方面有商标信息7条，专利信息547条，著作权信息6条；此外企业还拥有行政许可287个。

数据来源：天眼查APP

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