证券之星消息,根据天眼查APP数据显示横店东磁(002056)新获得一项发明专利授权,专利名为“薄膜电感结构及其制备方法”,专利申请号为CN202110686908.2,授权日为2026年6月9日。
专利摘要:本发明提供了一种薄膜电感结构及其制备方法。该薄膜电感结构包括第一基板层、第一线圈层、绝缘层、第二线圈层及第二基板层;其中,第一填充部及第二填充部的材料各自独立地包括软磁合金、热固性树脂及热塑性树脂。本发明的薄膜电感结构中,通过在第一线圈层及第二线圈层中设置的填充部,使其弥补了现有技术中较厚的电极线圈与基板层之间的高度差;与此同时,本发明利用软磁合金、热固性树脂及热塑性树脂作为填充部材料,并使其表面与电极线圈表面平齐,也大幅度地提高了基板磁片与线圈层在后续压合处理时的层间结合作用,促使基板磁片和线圈层结合力度更强。以上两方面因素下,避免了后续切割时薄膜电感开裂甚至严重分层现象的产生。
今年以来横店东磁新获得专利授权65个,较去年同期增加了4.84%。结合公司2025年年报财务数据,2025年公司在研发方面投入了5.69亿元,同比减21.22%。
通过天眼查大数据分析,横店集团东磁股份有限公司共对外投资了40家企业,参与招投标项目9560次;财产线索方面有商标信息224条,专利信息2799条,著作权信息27条;此外企业还拥有行政许可102个。
数据来源:天眼查APP
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