拉普拉斯获得实用新型专利授权：“内腔结构和反应炉”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“内腔结构和反应炉”，专利申请号为CN202520866089.3，授权日为2026年5月1日。

专利摘要：本申请涉及光伏和半导体技术领域，尤其涉及一种内腔结构和反应炉，内腔结构包括：内腔腔体，包括炉口端和与炉口端相对的尾端，炉口端的侧壁上设置有第一进气孔和第二进气孔；第一气路组件，包括：第一进气管，一端与第一进气孔连通，另一端被构造成连接气源以向内腔腔体内输送工艺气体；第二气路组件，包括：补气管道，设置在内腔腔体的内侧壁上，补气管道的一端与第二进气孔连通，另一端向朝向尾端方向延伸。通过在腔体的内部设置辅助气路，对腔体内非端部区域进行工艺气体的补充，保证腔体内工艺气体浓度的均匀性，能够提高硅片镀膜的均匀性。

今年以来拉普拉斯新获得专利授权44个，较去年同期减少了35.29%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了3.85亿元，同比增30.33%。

通过天眼查大数据分析，拉普拉斯新能源科技股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目66次；财产线索方面有商标信息144条，专利信息810条，著作权信息11条；此外企业还拥有行政许可61个。

数据来源：天眼查APP

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