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精测电子获得发明专利授权:“一种同轴光谱共焦成像系统及用于三维测量的设备”

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示精测电子(300567)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种同轴光谱共焦成像系统及用于三维测量的设备”,专利申请号为CN202211630877.X,授权日为2026年4月14日。

专利摘要:本发明公开了一种同轴光谱共焦成像系统,包括光源模块、色散镜头模组、光谱成像侧狭缝装置和光谱仪;光源模块提供宽光谱的光束并将其通过光源侧狭缝装置入射到色散镜头模组;色散镜头模组将入射的光依次透过其第一色散镜头模组、分光器件和第二色散镜头模组后射到待测物表面,还将经待测物表面反射的光依次透过其第二色散镜头模组、经分光器件的反射和透过第三镜头模组后会聚到光谱成像侧狭缝装置;光谱仪对会聚到光谱成像侧狭缝装置的不同波长的光进行成像。本发明通过入射和反射光路共轴共用一个第二色散镜头模组的方式克服了现有技术在测量较陡峭凹坑或孔洞时的遮挡问题,实现了对表面更深尺寸凹坑的测量。

今年以来精测电子新获得专利授权41个,较去年同期增加了105%。结合公司2025年中报财务数据,2025上半年公司在研发方面投入了3.2亿元,同比增8.47%。

通过天眼查大数据分析,武汉精测电子集团股份有限公司共对外投资了24家企业,参与招投标项目585次;财产线索方面有商标信息24条,专利信息2108条,著作权信息81条;此外企业还拥有行政许可5个。

数据来源:天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理,由AI算法生成(网信算备310104345710301240019号),不构成投资建议。

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