华海清科获得发明专利授权：“一种用于CMP抛光腔室的清洗装置及清洗方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示华海清科（688120）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种用于CMP抛光腔室的清洗装置及清洗方法”，专利申请号为CN202411922055.8，授权日为2026年4月10日。

专利摘要：本发明涉及CMP抛光腔室清洗技术领域，提出了一种用于CMP抛光腔室的清洗装置及清洗方法，抛光腔室中容纳有抛光单元，抛光单元包括晶圆装载杯和抛光头。喷嘴位于抛光腔室内，喷嘴包括晶圆装载杯清洗喷嘴和抛光头清洗喷嘴，分别用于喷出流体以清洗晶圆装载杯和抛光头，喷嘴喷出流体为液体和/或气体和/或气液混合体。通过上述技术方案，解决了现有技术中的CMP抛光腔室清洗装置对清洗液消耗多且清洗效果不明显的问题。

今年以来华海清科新获得专利授权19个，较去年同期增加了5.56%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了2.44亿元，同比增42.92%。

通过天眼查大数据分析，华海清科股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目260次；财产线索方面有商标信息91条，专利信息791条，著作权信息32条；此外企业还拥有行政许可31个。

数据来源：天眼查APP

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