精测电子获得发明专利授权：“一种基于制程区域的晶粒外观检测方法及系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示精测电子（300567）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种基于制程区域的晶粒外观检测方法及系统”，专利申请号为CN202111141388.3，授权日为2026年4月7日。

专利摘要：本发明提供一种基于制程区域的晶粒外观检测方法，包括如下步骤：获取晶圆上的标准晶粒，并对所述标准晶粒进行基于制程的区域划片；通过选取所述标准晶粒的特征点来对所述晶圆上的待测晶粒进行对位；基于所述标准晶粒的不同制程区域提取所述待测晶粒的对应制程区域；对所述待测晶粒的不同制程区域采用对应制程的检测方法进行缺陷检测。本发明通过对待测晶粒进行基于制程的区域提取，并对不同制程的区域采用不同的检测方法进行缺陷检测，提高了检测的精度及效率；同时，采用同一标准晶粒作为所有待测晶粒的对比标准，提高了检测的鲁棒性。

今年以来精测电子新获得专利授权40个，较去年同期增加了110.53%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了3.2亿元，同比增8.47%。

通过天眼查大数据分析，武汉精测电子集团股份有限公司共对外投资了24家企业，参与招投标项目581次；财产线索方面有商标信息24条，专利信息2108条，著作权信息81条；此外企业还拥有行政许可5个。

数据来源：天眼查APP

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