久吾高科获得实用新型专利授权：“一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示久吾高科（300631）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置”，专利申请号为CN202422992207.3，授权日为2026年1月27日。

专利摘要：本实用新型涉及一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置，具体涉及一研磨切割液废水回收硅粉和离子水的装置，属于水处理技术领域。包括：pH调节池，用于对废水的pH进行调节，并且还包括用于向pH调节池中加入酸液的酸液罐；陶瓷膜，用于对pH调节池中的废水进行过滤处理；板框压滤机，连接于陶瓷膜的截留侧，用于将陶瓷膜中获得的浓缩浆料进行固液分离获得硅粉废料；第一级反渗透膜，连接于陶瓷膜的渗透侧，用于对陶瓷膜的渗透液进行过滤处理；第二级反渗透膜，连接于第一级反渗透膜的渗透侧，用于对第一级反渗透膜的渗透液进行过滤处理，获得去离子水。

今年以来久吾高科新获得专利授权3个，较去年同期增加了200%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了2206.73万元，同比减7.86%。

通过天眼查大数据分析，江苏久吾高科技股份有限公司共对外投资了17家企业，参与招投标项目352次；财产线索方面有商标信息16条，专利信息382条，著作权信息7条；此外企业还拥有行政许可33个。

数据来源：天眼查APP

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