华海清科获得发明专利授权：“晶圆抛光方法、抛光设备和存储介质”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示华海清科（688120）新获得一项发明专利授权，专利名为“晶圆抛光方法、抛光设备和存储介质”，专利申请号为CN202411538293.9，授权日为2025年9月19日。

专利摘要：本申请实施例提供了一种晶圆抛光方法、抛光设备和存储介质。晶圆抛光方法包括：获取对晶圆进行抛光的抛光时间的第一取值范围、抛光头的抛光压力的第二取值范围和晶圆的目标去除量；根据第一取值范围和第二取值范围对预设的约束条件进行更新，获得目标约束条件；其中，约束条件用于约束抛光时间和抛光压力的范围；将抛光时间和抛光压力作为优化模型的待优化变量，至少将预测去除量与目标去除量的差异最小作为优化模型的优化目标，根据预设的去除率预测模型构建优化模型；基于目标约束条件和优化模型，确定抛光时间和抛光压力；根据确定出的抛光时间和抛光压力，控制抛光头对晶圆进行抛光。

今年以来华海清科新获得专利授权69个，较去年同期增加了165.38%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了2.44亿元，同比增42.92%。

通过天眼查大数据分析，华海清科股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目233次；财产线索方面有商标信息89条，专利信息722条，著作权信息30条；此外企业还拥有行政许可31个。

数据来源：天眼查APP

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