拉普拉斯获得实用新型专利授权：“进气结构及反应炉”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“进气结构及反应炉”，专利申请号为CN202421662519.1，授权日为2025年5月13日。

专利摘要：本公开涉及半导体和光伏技术领域，尤其涉及一种进气结构及反应炉，解决了相关技术中气体在炉中分布不均匀，导致镀膜的均匀性较差的问题。该进气结构包括至少一组进气管组，包括沿第一方向延伸的第一进气管和第二进气管，第一进气管和第二进气管分别设有沿第一方向间隔布置的多个第一出气孔组和第二出气孔组，第一进气管的中心线和第二进气管的中心线相连所形成的第一平面与承载面平行，第二进气管具有沿第一方向间隔布置的多组第二出气孔组，在第二进气管沿第一平面的延伸方向向第一进气管的正投影中，第一出气孔组和第二出气孔组无重叠或部分重叠。本公开提供的进气结构及反应炉，能够提高镀膜的均匀性。

今年以来拉普拉斯新获得专利授权66个。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.96亿元，同比增27.5%。

数据来源：天眼查APP

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