拉普拉斯获得实用新型专利授权：“炉管端盖及硅片镀膜设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“炉管端盖及硅片镀膜设备”，专利申请号为CN202421802765.2，授权日为2025年5月13日。

专利摘要：本公开提供一种炉管端盖及硅片镀膜设备，炉管端盖设有第一排气口及第二排气口，第一排气口与第二排气口分别位于炉管端盖的中心所在的竖直面的两侧，第一排气口与第二排气口以炉管端盖的中心所在的竖直面对称设置，第一排气口与第二排气口用于排出炉管内的气体。第一排气口与第二排气口能够分散负压，避免负压过于集中，减小负压在排气口与炉管边缘之间的压差，从而提升负压均匀性，使得气体只需要流至距离最近的第一排气口或第二排气口即可排出，减小了气体无需沿径向流动的距离，进而使得气体的流向更加平行于炉管的轴向，故而提升了流经硅片的气体的均匀性，从而使得气体在各个硅片的各个位置产生的沉积速率值更接近，提升了镀膜均匀性。

今年以来拉普拉斯新获得专利授权66个。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.96亿元，同比增27.5%。

数据来源：天眼查APP

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