证券之星消息,根据天眼查APP数据显示拉普拉斯(688726)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“干法清洗装置”,专利申请号为CN202421519636.2,授权日为2025年4月22日。
专利摘要:本申请提供了一种干法清洗装置,涉及光伏设备清洗领域,解决了干法清洗装置对工件清洁效果较差的技术问题。该干法清洗装置包括:腔体,具有工艺腔室,工艺腔室被配置为容纳工件;气体输送装置,被配置为提供清洁气体;微波生成组件,被配置为对至少部分清洁气体电离产生等离子体,其中,等离子体被配置为对工件的表面进行清洁;至少两个相对设置的极板,设置于工艺腔室内,被配置为将工艺腔室内的清洁气体电离为等离子体。由于微波生成组件和极板都可以电离清洁气体生成等离子体,相较于使用单一的等离子体生成装置,提高了将清洁气体电离为等离子体的电离率,从而可以提升对工件的清洁效果。
今年以来拉普拉斯新获得专利授权55个。结合公司2024年年报财务数据,2024年公司在研发方面投入了2.96亿元,同比增27.5%。
数据来源:天眼查APP
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