西高院获得实用新型专利授权：“一种水滴对绝缘子表面电晕放电影响的试验平台”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示西高院（688334）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种水滴对绝缘子表面电晕放电影响的试验平台”，专利申请号为CN202420582159.8，授权日为2025年3月4日。

专利摘要：本实用新型公开了一种水滴对绝缘子表面电晕放电影响的试验平台，属于电力系统技术领域。试验平台包括淋雨装置、脉冲电流测量装置及图像采集系统；所述淋雨装置用于给绝缘子进行喷水作业；所述脉冲电流测量装置用于测量淋雨装置工作时，绝缘子的脉冲电流峰值；所述图像采集系统用于拍摄淋雨装置喷出的水滴落在绝缘子上的过程。本实用新型通过图像采集系统对水滴接触绝缘子表面的过程进行记录，脉冲电流测量装置对电晕脉冲电流进行测量，得到电晕脉冲电流和水滴的受力运动情况和放电形态的一一对应，获取水滴滴落、附着在绝缘子表面和离开绝缘子整个过程中水滴的受力运动情况和放电特征。

今年以来西高院新获得专利授权4个，较去年同期减少了42.86%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了3550.23万元，同比增82.6%。

数据来源：天眼查APP

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