拉普拉斯获得实用新型专利授权：“反应装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“反应装置”，专利申请号为CN202323510243.3，授权日为2025年1月28日。

专利摘要：本申请公开一种反应装置，包括炉体和至少一个盛接组件。炉体内设有容腔和与容腔连通的炉口，容腔用于容纳硅片，硅片在容腔内发生反应，在炉口打开时容腔内会产生偏磷酸。盛接组件包括连接设置于容腔内的载盘，载盘具有顶面，顶面用于盛接偏磷酸。本申请提供了一种反应装置，通过载盘盛接炉口打开时容腔内产生的偏磷酸，达到减小偏磷酸对主体造成的污染和损坏的目的。当载盘盛接的偏磷酸过多时，通过载盘于容腔内活动设置，以将盛有偏磷酸的载盘于容腔内取出，达到便于倾倒偏磷酸和对载盘进行清洗的效果。解决了反应设备加工硅片时，滴落的偏磷酸会堆积在反应设备中，导致反应设备清理困难和容易损坏的问题。

今年以来拉普拉斯新获得专利授权8个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.73亿元，同比增57.18%。

数据来源：天眼查APP

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