四方达获得发明专利授权：“一种快速无损检测聚晶金刚石复合片脱钴深度的装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示四方达（300179）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种快速无损检测聚晶金刚石复合片脱钴深度的装置”，专利申请号为CN201910464293.1，授权日为2024年7月5日。

专利摘要：本发明公开一种快速无损检测聚晶金刚石复合片的脱钴深度的装置，该装置由测试探头、探头驱动电路、探头信号检测电路、两路直接数字式信号合成器、模数转换器、计算机、输入键盘、显示器组成。该装置用于测量脱钴聚晶金刚石复合片的脱钴深度；工作时，将探头紧压在复合片的表面，绝缘的脱钴层使探头电极与复合片之间形成脱钴层电容；本发明通过对流经探头的交流电信号的测量，得到脱钴层电容的数值，进而得到脱钴层厚度的数据。本发明能够快速、无损地测量聚晶金刚石复合片的脱钴深度，便于在批量生产中进行在线的质量控制，提高脱钴聚晶金刚石复合片的产品质量和成品率。

今年以来四方达新获得专利授权42个，较去年同期增加了27.27%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了6296.03万元，同比减1.93%。

数据来源：企查查

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