证券之星消息，根据企查查数据显示奥比中光（688322）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种漫射体及其设计方法”，专利申请号为CN202210721821.9，授权日为2024年5月31日。
专利摘要：本申请涉及光学设计技术领域，尤其涉及一种漫射体及其设计方法。漫射体包括阵列排列的多个漫射单元，所述漫射单元用于控制入射光场经所述漫射体后的出射光场的分布；其中，所述漫射单元包括像侧面，所述像侧面配置为沿第一方向拼接的凸面面型和凹面面型，以使得所述出射光场为非对称分布，所述像侧面沿所述第一方向的两端高度一致，所述第一方向为非对称分布的所述出射光场的非对称方向。本申请实施例能够在降低漫射体加工难度的基础上，实现非对称的出射光场。
今年以来奥比中光新获得专利授权53个，较去年同期减少了23.19%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了3.01亿元，同比减20.96%。
数据来源：企查查
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