韦尔股份获得实用新型专利授权：“一种沟槽IGBT结构”

证券之星消息，根据企查查数据显示韦尔股份（603501）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种沟槽IGBT结构”，专利申请号为CN202322634523.9，授权日为2024年5月28日。

专利摘要：本申请实施例提供了一种沟槽IGBT结构，衬底中设置有栅极沟槽和发射极沟槽；衬底从上表面往下依次设置有第一注入区和第二注入区，部分第一注入区中设置有第三注入区；衬底上表面设置有介质层，栅极沟槽和发射极沟槽中填充有多晶硅；第一发射极接触孔从上到下贯穿介质层直到第一发射极接触孔底部抵达发射极沟槽中的多晶硅中；第二发射极接触孔从上到下贯穿介质层和第三注入区直到第二发射极接触孔底部抵达第一注入区中；衬底的下表面设置有第四注入区；该结构通过去除部分发射极接触孔的方式，使对应的第一注入区浮空，器件导通时增强载流子在第一注入区积累，从而使器件正面载流子浓度增加，具有低导通电压。

今年以来韦尔股份新获得专利授权14个，较去年同期增加了100%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了22.34亿元，同比减10.48%。

数据来源：企查查

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