日久光电获得实用新型专利授权：“低反射膜”

证券之星消息，根据企查查数据显示日久光电（003015）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“低反射膜”，专利申请号为CN202420648114.6，授权日为2024年5月14日。

专利摘要：本申请公开了一种低反射膜，由以下层组成：基材层；高折射率预涂层，布置在基材层一面；高折射率硬涂层，布置在高折射率预涂层背离基材层一面；低反射率层，布置在高折射率硬涂层背离高折射率预涂层一面；高折射率预涂层的折射率和高折射率硬涂层的折射率的差值的绝对值为0~0.02，且高折射率硬涂层的折射率为1.6~1.7。本申请的低反射膜相对于常规结构的低反射膜，能够实现相同的低反射效果，有效简化了涂布工艺，仅有一层纳米量级的低反射率层，有助于在制备过程中控制涂层厚度，保证后续均匀，避免了涂布厚度难以掌控导致了反射率偏大和TD方向的色差均一性等问题。

今年以来日久光电新获得专利授权19个，较去年同期增加了18.75%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了3173.7万元，同比增24.3%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成（网信算备310104345710301240019号），与本站立场无关，如数据存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。