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扬杰科技获得发明专利授权:“一种改善背面金属与衬底Si脱落异常的加工方法”

来源:证券之星企业动态 2024-05-04 02:10:45
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证券之星消息,根据企查查数据显示扬杰科技(300373)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种改善背面金属与衬底Si脱落异常的加工方法”,专利申请号为CN202011102682.9,授权日为2024年5月3日。

专利摘要:一种改善背面金属与衬底Si脱落异常的加工方法。涉及一种芯片背面减薄后的去应力清洗工艺,尤其涉及一种改善背面金属与衬底Si脱落异常的加工方法。提供了一种提高背面金属与Si之间的结合力的一种改善背面金属与衬底Si脱落异常的加工方法。本发明主要改进了硅腐蚀液的配方,常温下,硅单质在纯HF中的腐蚀速率很小,可忽略为不反应,但是如果加入HNO3,腐蚀速率会大大增加,其中HNO3作为氧化剂氧化了单质Si。利用硝酸的强氧化性,先将Si氧化为SiO2,再由HF将二氧化硅去除。缓冲剂提供H+来源,使腐蚀速率能够保持稳定。本发明具有加工简便,提升背面结合力等特点。

今年以来扬杰科技新获得专利授权31个,较去年同期增加了72.22%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了3.56亿元,同比增21.57%。

数据来源:企查查

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