正业科技获得发明专利授权：“一种芯片缺陷视觉检测方法及设备”

证券之星消息，根据企查查数据显示正业科技（300410）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种芯片缺陷视觉检测方法及设备”，专利申请号为CN202111582806.2，授权日为2024年4月26日。

专利摘要：本发明公开了一种芯片缺陷视觉检测方法及设备，其通过过对半导体芯片X?Ray图像进行预处理、提取、矫正、自适应阈值分割及减运算得到第一特征图像，再对其进行连通域标记及特征提取，得到第二特征矩阵，再通过决策树方法进行分类，从而判断多个第二特征矩阵中是否具有不符合预设标准的瑕疵缺陷特征矩阵，定位瑕疵缺陷并判定是否为不良芯片；在上述过程中，从步骤：将芯片特征图像和良品特征图像相减，得到第一特征矩阵图像至步骤：通过决策树方法对所述第二特征矩阵进行分类，形成独特的以减分法为核心的检测思路，使得整体的计算量小，结构简洁易于实现，使得芯片的筛查效率得到提高，且取代了人工，具有高效率且低成本等优点。

今年以来正业科技新获得专利授权8个，较去年同期增加了100%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了7036.82万元，同比减31.39%。

数据来源：企查查

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