证券之星消息,根据企查查数据显示横店东磁(002056)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种高弓高的磁瓦上模结构”,专利申请号为CN202321976349.X,授权日为2024年4月23日。
专利摘要:本实用新型涉及永磁铁氧体磁瓦制造领域,具体为一种高弓高的上模结构;一种高弓高的磁瓦上模结构,特征在于包括上模,所述上模的底面设有向顶面凹陷的弧形槽,且所述弧形槽中部的槽顶还设有向顶面凹陷的凹槽,所述上模顶面的两端设有对称分布的吸水孔;解决了上述技术中,对于高弓高的磁瓦产品,磁瓦由于充磁取向和压制方向的影响导致磁瓦毛坯各部位的密度不均匀且差距较大,生坯经过烧结后,由于生坯密度分布的剧烈波动,导致出现磁瓦两侧轴向开裂,或在磨加工后出现开裂,造成成品率低、生产效率低下、增加了生产成本的问题。
今年以来横店东磁新获得专利授权36个,较去年同期减少了56.63%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了8.77亿元,同比减6.64%。
数据来源:企查查
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