有研硅获得发明专利授权：“一种降低硅抛光片表面产生时间雾的方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示有研硅（688432）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种降低硅抛光片表面产生时间雾的方法”，专利申请号为CN201910428626.5，授权日为2024年4月19日。

专利摘要：本发明公开了一种降低硅抛光片表面产生时间雾的方法。该方法包括以下步骤：(1)将去蜡清洗与硅片参数测试完成的硅抛光片依次进行：a.进行SC?1液兆声清洗，然后进行快速高纯水冲洗(QDR)或2个纯水溢流冲洗(OF)；b.进行SC?2液兆声清洗，然后进行快速高纯水冲洗(QDR)或2个纯水溢流冲洗(OF)；(2)热水溢流冲洗；(3)IPA Marangoni(马兰戈尼)干燥；(4)用内包装袋真空封装并存放；(5)拆除内包装袋；(6)硅片表面颗粒测试；(7)采用内层充氮气，外层抽真空，内外双层包装袋封装。采用本发明可大幅降低硅抛光片表面时间雾的产生，从而大幅减少硅抛光片因产生时间雾而造成的返工，降低生产成本。

今年以来有研硅新获得专利授权7个，较去年同期增加了250%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8222.21万元，同比减2.93%。

数据来源：企查查

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