中微公司获得发明专利授权：“等离子体隔离环、等离子体处理装置与基片处理方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“等离子体隔离环、等离子体处理装置与基片处理方法”，专利申请号为CN201911024441.4，授权日为2024年3月12日。

专利摘要：本发明公开了一种适用于多工艺需求的等离子体隔离环、等离子体处理装置与基片处理方法。其中，该等离子体隔离环包括：由第一导电率材料制成的下隔离环，具有呈环形的第一壁体；由第二导电率材料制成的上隔离环，与下隔离环固定且具有呈环形的第二壁体；等离子体隔离环于等离子体处理装置内移动以将等离子体约束于下隔离环与上隔离环中之一者的相应壁体内。适用该等离子体隔离环的等离子体处理装置在对基片进行不同工艺处理时，只需移动由不同导电率材料制成的隔离环即可满足不同刻蚀工艺需求，而无需打开反应腔更换隔离环。

今年以来中微公司新获得专利授权34个，较去年同期增加了21.43%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了2.92亿元，同比减3.77%。

数据来源：企查查

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