证券之星消息,根据企查查数据显示云南锗业(002428)新获得一项发明专利授权,专利名为“不同偏角度砷化镓籽晶加工及砷化镓单晶的制备方法”,专利申请号为CN202111179012.1,授权日为2024年3月12日。
专利摘要:不同偏度砷化镓籽晶加工及砷化镓单晶的制备方法,涉及半导体晶体生长领域,尤其是一种砷化镓单晶的制备技术。本发明的方法包括了籽晶胚的加工和定向、籽晶抛光和清洗、单晶生长等步骤,其中,钻取种子胚大小适中,种子胚比种子小嘴内径小0.025mm?0.76mm。抛光剂采用溴素和乙醇按体积比2:1?1:4进行配置。本发明的优点是不同偏角度(100)到(111)偏0°、2°、6°、10°和15°的籽晶生长的砷化镓单晶体与国家标准(GB/T 30856?2014)对位错的要求相比,其位错非常低、结晶度高。最主要的是晶圆抛光后进行外延,外延淀积速率高,外延层表面质量也较好,外延层的生长参数也易于控制。
今年以来云南锗业新获得专利授权4个,较去年同期增加了300%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了1928.1万元,同比增59.06%。
数据来源:企查查
以上内容由证券之星根据公开信息整理,由算法生成,与本站立场无关。证券之星力求但不保证该信息(包括但不限于文字、视频、音频、数据及图表)全部或者部分内容的的准确性、完整性、有效性、及时性等,如存在问题请联系我们。本文为数据整理,不对您构成任何投资建议,投资有风险,请谨慎决策。