正海磁材获得发明专利授权：“一种钕铁硼磁体表面涂镀层的退镀液和退镀方法及其应用”

证券之星消息，根据企查查数据显示正海磁材（300224）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种钕铁硼磁体表面涂镀层的退镀液和退镀方法及其应用”，专利申请号为CN202111165915.4，授权日为2024年2月13日。

专利摘要：本发明涉及一种钕铁硼磁体表面多种涂镀层的退镀液和退镀方法及其应用。本发明所述退镀液包括：溶剂，选自水和与水互溶的有机溶剂；溶质，所述溶质包括如下组分：碱10～30g/L，络合剂2～6g/L，缓蚀剂1～10g/L。本发明还提供一种退镀方法，通过振动退镀，加入少量上述退镀液后，在常温低碱性浓度的状态下即可完成工件表面的退镀。本发明的退镀液和退镀方法适用范围广，退镀效果好且高效，低浓度常温退镀对磁体、操作人员和环境影响较小。

今年以来正海磁材新获得专利授权3个，较去年同期减少了25%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了1.63亿元，同比增42.24%。

数据来源：企查查

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