国林科技：子公司国林半导体目前所研发产品可用于半导体清洗工艺环节

国林科技(300786)09月14日在投资者关系平台上答复了投资者关心的问题。

投资者：董秘您好。贵司臭氧设备可用于光刻胶清洗，半导体清洗、请问贵司有无相关设备出货？后续有无与光刻厂领域的发展意向？感谢回复~！

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。臭氧具有很高的氧化还原电位，具有强氧化特性、高活性的特点，近年来臭氧被认为是一种低成本的“绿色”化学品，是大多数应用的良好选择，已被广泛应用于电子工业中。典型的臭氧应用包括：化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理和氧化物生长等工艺制程中。子公司国林半导体产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证，未来公司的工作重点将围绕产品市场推广及产品迭代展开。感谢您的关注。

投资者：Hello董秘大大能否了解下臭氧是否用于光刻机清理呢？目前贵司臭氧清理半导体设备出货如何，谢谢

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。臭氧具有很高的氧化还原电位，具有强氧化特性、高活性的特点，近年来臭氧被认为是一种低成本的“绿色”化学品，是大多数应用的良好选择，已被广泛应用于电子工业中。典型的臭氧应用包括：化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理和氧化物生长等工艺制程中。子公司国林半导体产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证，未来公司的工作重点将围绕产品市场推广及产品迭代展开，详细业绩情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。

投资者：请问公司半导体设备是否用于半导体清洗

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。子公司国林半导体目前所研发产品可用于半导体清洗工艺环节。感谢您的关注。

投资者：公司目前对标美国MKS公司，预计什么时候有能力生产整套半导体清洗设备？实验室是否已开发样机？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司将立足主业，保持技术开拓与创新，根据市场情况制定相关的战略规划。感谢您的关注。

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