(原标题:晶合集成关于新产品研发进展的自愿性披露公告)
合肥晶合集成电路股份有限公司(晶合集成)宣布在光刻掩模版研发和生产方面取得重大成果。公司已成功生产出首片半导体光刻掩模版,预计2024年第四季度开始量产。量产后的服务范围涵盖28nm至150nm制程的光刻掩模版设计、制造、测试及认证,预计年产能支持可达4万片。这一进展有助于增强供应链安全性,提升市场竞争力,促进公司持续健康发展,并推动本土产业升级。然而,从研发进展到大规模量产仍需时间并面临市场环境变化和竞争加剧等风险。