证券代码：688072 证券简称：拓荆科技 公告编号：2026-009
拓荆科技股份有限公司
本公司董事会及全体董事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈
述或者重大遗漏，并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。
本公告所载拓荆科技股份有限公司（以下简称“公司”，含合并报表范围内
的下属公司）2025 年度主要财务数据为初步核算数据，未经会计师事务所审计，
具体数据以公司 2025 年年度报告披露的数据为准，提请投资者注意投资风险。
一、2025 年度主要财务数据和指标
单位：人民币万元
项目 本报告期 上年同期 增减变动幅度（%）
营业总收入 651,909.49 410,345.39 58.87
营业利润 87,849.12 67,876.09 29.43
利润总额 87,864.50 67,859.92 29.48
归属于母公司所有者的
净利润
归属于母公司所有者的
扣除非经常性损益的净 72,577.55 35,613.79 103.79
利润
基本每股收益（元） 3.33 2.48 34.27
加权平均净资产收益率 15.81% 14.11% 增加 1.7 个百分点
本报告期末 本报告期初 增减变动幅度（%）
总资产 1,982,453.56 1,531,416.61 29.45
归属于母公司的所有者
权益
股本 28,234.49 27,972.91 0.94
归属于母公司所有者的
每股净资产（元）
注：1、本报告期初数同法定披露的上年年末数。
度报告为准。
二、经营业绩和财务状况情况说明
（一）报告期的经营情况、财务状况及影响经营业绩的主要因素
母公司所有者的净利润约 9.29 亿元，同比增长约 35.05%；归属于母公司所有者
的扣除非经常性损益的净利润约 7.26 亿元，同比增长约 103.79%。
归属于母公司的所有者权益约 66.12 亿元，与本报告期初相比增长约 25.23%。
随着人工智能（AI）、高性能计算（HPC）、汽车电子（智能驾驶、车联网）、
机器人及可穿戴设备等新兴领域技术的快速发展和需求的激增，芯片制造厂加速
推进先进制程的技术迭代，同时不断扩大产能规模。公司积极把握半导体芯片技
术迭代升级与国产替代的发展机遇，构建了较为完善的薄膜沉积设备、三维集成
领域设备的产品矩阵。依托在 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD
等薄膜沉积设备及先进键合设备领域的技术突破与规模化量产，公司在先进制程
领域核心竞争力显著提升，业务规模实现大幅增长。
公司始终坚持高强度研发投入与自主创新双轮驱动，在新产品研发、产业化
落地及全系列产品迭代升级等关键领域，取得了一系列重大突破性创新成果。
和 Supra-D）的 PECVD Stack（ONO 叠层）、ACHM 以及 PECVD Bianca 等先
进制程机台通过客户验证，实现产业化放量；应用于先进存储领域的 PECVD
OPN、SiB 等先进工艺设备通过客户验证；ALD 多种工艺设备通过客户验证，其
收入同比实现大幅度增长，产业化进程显著加速；在混合键合设备方面，持续拓
展客户群体，收入保持高速增长趋势。公司持续完善和扩大工艺覆盖范围，整体
技术实力与核心竞争力实现稳步提升。
（二）上表中有关项目增减变动幅度达 30%以上的主要原因说明
公司应用于先进存储、先进逻辑领域的 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD 等
先进工艺设备进入规模化量产，并实现收入转化；先进键合设备在客户拓展方面
取得了关键突破，销售收入实现了大幅增长。
（1）营业收入大幅增长，毛利额增加；
（2）公司营业收入规模持续扩大，同时规模效应逐渐显现，期间费用率下
降。
（1）日常经营活动产生的归属于母公司股东的净利润大幅增加；
（2）非经常性损益同比减少，主要为公司对外投资的公允价值变动损益同
比减少。
东的净利润大幅度增长。
三、风险提示
本公告所载 2025 年度主要财务数据为初步核算的合并报表数据，未经会计
师事务所审计，具体数据以公司 2025 年年度报告中披露的数据为准，敬请广大
投资者注意投资风险。
特此公告。
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