晶盛机电获得发明专利授权：“一种抛光设备及颗粒物控制方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶盛机电（300316）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种抛光设备及颗粒物控制方法”，专利申请号为CN202411154123.0，授权日为2026年11月6日。

专利摘要：本申请涉及本申请涉及半导体加工领域，尤其是涉及一种抛光设备及颗粒物控制方法，抛光设备包括：上料室，所述上料室用于抛片上料；加工室，所述加工室用于抛片加工，所述加工室与所述上料室连通；下料室，所述下料室用于抛片下料，所述下料室与所述加工室连通；以及传动机构，所述传动机构设置于所述上料室与所述加工室之间、所述加工室与所述下料室之间，所述传动机构用于所述上料室向所述加工室输入抛片、所述加工室向所述下料室输出抛片；其中，所述上料室设置有第一气压，所述加工室与所述下料室设置有第二气压，所述第一气压大于所述第二气压。解决了CMP设备空间内的颗粒污染的技术问题，达到降低CMP设备空间内的颗粒污染的技术效果。

今年以来晶盛机电新获得专利授权82个，较去年同期减少了24.77%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了4.64亿元，同比减0.12%。

通过天眼查大数据分析，浙江晶盛机电股份有限公司共对外投资了37家企业，参与招投标项目276次；财产线索方面有商标信息112条，专利信息1233条，著作权信息162条；此外企业还拥有行政许可49个。

数据来源：企查查

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