至纯科技获得发明专利授权：“用于降低功率器件内应力的外延片制作方法及外延片”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示至纯科技（603690）新获得一项发明专利授权，专利名为“用于降低功率器件内应力的外延片制作方法及外延片”，专利申请号为CN202111647201.7，授权日为2025年10月3日。

专利摘要：本发明涉及半导体器件制造技术领域，具体涉及一种用于降低功率器件内应力的外延片制作方法及外延片，包括：一种用于降低功率器件内应力的外延片制作方法，包括：形成一衬底，所述衬底为第一材质；于所述衬底的表面蚀刻形成多个第一沟槽；于所述衬底上方形成一缓冲层，所述缓冲层为第二材质；于所述缓冲层的表面蚀刻形成多个第二沟槽；于所述缓冲层表面形成一外延层，以形成一外延片。本发明的有益效果在于：通过设置缓冲层避免了现有技术中衬底和外延层应力释放不充分的问题，并通过设置第一沟槽和第二沟槽进一步地释放了器件的内应力，提高了器件的良品率。

今年以来至纯科技新获得专利授权43个，较去年同期增加了126.32%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了1.18亿元，同比增17.59%。

通过天眼查大数据分析，上海至纯洁净系统科技股份有限公司共对外投资了46家企业，参与招投标项目76次；财产线索方面有商标信息104条，专利信息321条，著作权信息30条；此外企业还拥有行政许可43个。

数据来源：天眼查APP

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