国林科技：臭氧发生器产品浓度可达400mg/L_股票频道

证券之星消息，国林科技(300786)06月30日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者：公司的国外及国内的竞争对手的同类型臭氧产品，其400mg/L及以上的设备已经完全可以用于5nm和3nm制程芯片的生产工艺。请问贵司的400mg/L的臭氧设备具备同等技术水平吗？从技术理论上，是否也能用于5nm和3nm制程芯片？
国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。臭氧发生器核心指标之一就是臭氧气体浓度，目前国林产品可以达到400mg/L指标。感谢您的关注。

投资者：有消息称，国产光刻系统已经跑通5nm产线，贵司在国产芯片光刻制造全流程环节中，扮演怎样的作用？
国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司的产品可为该环节清洗工艺提供对应的机能水设备，满足工序清洗需求。感谢您的关注。

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