卓胜微获得实用新型专利授权：“等离子体刻蚀腔室盖板”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示卓胜微（300782）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“等离子体刻蚀腔室盖板”，专利申请号为CN202420477874.5，授权日为2025年2月28日。

专利摘要：本实用新型提供一种等离子体刻蚀腔室盖板，在其侧壁上设置开口宽度大于槽底宽度的环状搬运槽，以通过环状搬运槽对等离子体刻蚀腔室盖板进行安装及搬运，其中，呈环状的搬运槽可便于工作人员调整搬运位置，加大手指与等离子体刻蚀腔室盖板的接触面积，省力的同时也可以避免安装过程中手指与GDP调整支架挂钩的挤压，避免人员手指受伤，以及可避免安装过程中等离子体刻蚀腔室盖板与GDP调整支架挂钩的碰撞，避免等离子体刻蚀腔室盖板的自身的损坏，从而可大大增加安装安全性和可靠性；进一步的，通过对环状搬运槽进行多种尺寸及形貌的设置，还可进一步的扩大等离子体刻蚀腔室盖板的应用便捷性及适用范围。

今年以来卓胜微新获得专利授权7个，较去年同期增加了250%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了4.93亿元，同比增94.22%。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由智能算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。