首页 - 股票 - 公司新闻 - 正文

甬矽电子获得实用新型专利授权：“薄膜沉积装置”

来源：证券之星企业动态 2024-12-24 02:47:02

涉企侵权信息举报专区

关注证券之星官方微博：

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示甬矽电子（688362）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“薄膜沉积装置”，专利申请号为CN202421040491.8，授权日为2024年12月24日。

专利摘要：一种薄膜沉积装置，涉及半导体工艺设备技术领域。该薄膜沉积装置包括晶圆平台和加热平台，晶圆平台靠近加热平台的一面设有容置槽，加热平台可拆卸连接于容置槽内，且加热平台与晶圆平台相向设置的一面呈面接触，加热平台用于对晶圆平台加热。该薄膜沉积装置能够在加热装置发生损坏时便于维修，能够降低薄膜沉积装置的维修成本。

今年以来甬矽电子新获得专利授权50个，较去年同期减少了1.96%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了9398.43万元，同比增52.57%。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由智能算法生成，不构成投资建议。

证券之星微信

扫描二维码

证券之星微信

相关股票：

好投资评级：

好价格评级：

证券之星估值分析提示甬矽电子盈利能力一般，未来营收成长性一般。综合基本面各维度看，股价偏高。更多>>

精彩推荐

内容精选

下载证券之星

郑重声明：以上内容与证券之星立场无关。证券之星发布此内容的目的在于传播更多信息，证券之星对其观点、判断保持中立，不保证该内容（包括但不限于文字、数据及图表）全部或者部分内容的准确性、真实性、完整性、有效性、及时性、原创性等。相关内容不对各位读者构成任何投资建议，据此操作，风险自担。股市有风险，投资需谨慎。如对该内容存在异议，或发现违法及不良信息，请发送邮件至jubao@stockstar.com，我们将安排核实处理。

网站导航 | 公司简介 | 法律声明 | 诚聘英才 | 征稿启事 | 联系我们 | 广告服务 | 举报专区

欢迎访问证券之星！请点此与我们联系版权所有： Copyright © 1996-年