京东方Ａ获得发明专利授权：“一种平板探测器像素结构及其制作方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种平板探测器像素结构及其制作方法”，专利申请号为CN202110820201.6，授权日为2024年9月17日。

专利摘要：本发明公开了本发明实施例提供的一种平板探测器像素结构，包括：PIN膜层；底电极层，设置在PIN膜层的一侧；隔离结构，设置PIN膜层上远离底电极层的一侧；顶电极层，设置在隔离结构上远离PIN膜层的一侧，且顶电极层的中部与PIN膜层连接；顶电极层的边缘在PIN膜层上的正投影被隔离结构覆盖。本发明中的隔离结构可将顶电极层的边缘与PIN膜层的边缘和侧壁进行隔离和绝缘，可有效的消除顶电极层对PIN膜层侧壁的放电作用；并且，当负偏压增加时，隔离结构可以有效防止电流直接富集在顶电极层金属边缘时出现放电现象，有效减少了PIN膜层侧壁漏流，使得平板探测器像素能够稳定的工作在较高负偏压条件下。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2734个，较去年同期增加了37.73%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了58.06亿元，同比增10.24%。

数据来源：天眼查APP

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