路维光电（688401）2024年中报简析：营收净利润同比双双增长，应收账款上升

据证券之星公开数据整理，近期路维光电（688401）发布2024年中报。截至本报告期末，公司营业总收入3.96亿元，同比上升28.49%，归母净利润8242.3万元，同比上升16.69%。按单季度数据看，第二季度营业总收入2.19亿元，同比上升27.21%，第二季度归母净利润4134.84万元，同比下降2.06%。本报告期路维光电应收账款上升，应收账款同比增幅达68.2%。

本次财报公布的各项数据指标表现一般。其中，毛利率34.18%，同比减1.05%，净利率20.94%，同比减4.73%，销售费用、管理费用、财务费用总计2537.44万元，三费占营收比6.41%，同比减14.65%，每股净资产6.62元，同比减7.6%，每股经营性现金流0.36元，同比减34.5%，每股收益0.43元，同比增16.22%。具体财务指标见下表：

财务报表中对有大幅变动的财务项目的原因说明如下：

1. 货币资金变动幅度为-50.41%,原因:支付收购少数股东股权款。
2. 交易性金融资产变动幅度为-100.0%,原因:银行理财产品到期赎回。
3. 应收票据变动幅度为71.74%,原因:收到票据未到期的金额增加。
4. 应收款项融资变动幅度为148.88%,原因:信用等级较高的银行承兑票据未到期未收回。
5. 其他应收款变动幅度为270.54%,原因:处置设备形成的价款增加。
6. 其他流动资产变动幅度为-53.58%,原因:待抵扣增值税进项税金减少。
7. 在建工程变动幅度为-33.24%,原因:设备验收转固。
8. 递延所得税资产变动幅度为48.76%,原因:计提信用减值损失对应的递延所得税资产增加。
9. 短期借款变动幅度为194.24%,原因:公司新增短期借款。
10. 应付账款变动幅度为-55.52%,原因:公司应付设备款及材料款减少。
11. 合同负债变动幅度为-34.95%,原因:公司预收货款减少。
12. 应交税费变动幅度为52.52%,原因:本期计提的税费增加。
13. 其他应付款变动幅度为224.87%,原因:本期应付费用款增加。
14. 其他流动负债变动幅度为72.45%,原因:待转销项税增加。
15. 租赁负债变动幅度为767.48%,原因:租赁付款额增加。
16. 营业收入变动幅度为28.49%,原因:公司坚持技术创新促进公司各项业务平稳发展，促使营业收入保持增长趋势。
17. 营业成本变动幅度为29.2%,原因:随营业收入增长同趋势上升。
18. 管理费用变动幅度为24.1%,原因:报告期内管理人员薪酬、办公资产的折旧费用、中介及咨询费增加。
19. 财务费用变动幅度为-118.7%,原因:公司对贷款结构进行优化以及日元汇率下降带来的汇兑收益。
20. 研发费用变动幅度为19.52%,原因:报告期内公司对新产品及新工艺研发持续投入增加。
21. 经营活动产生的现金流量净额变动幅度为-34.5%,原因:报告期内购买商品、接受劳务支付的现金增加。
22. 投资活动产生的现金流量净额变动幅度为68.19%,原因:报告期内投资支付的现金减少。
23. 筹资活动产生的现金流量净额变动幅度为-626.25%,原因:报告期内支付收购少数股东股权资金增加。

证券之星价投圈财报分析工具显示：

• 业务评价：公司去年的ROIC为8.32%，资本回报率一般。去年的净利率为21.78%，算上全部成本后，公司产品或服务的附加值高。
• 融资分红：公司上市2年以来，累计融资总额8.36亿元，累计分红总额7476.68万元，分红融资比为0.09。公司去年借的钱比分红的多，需注意观察公司经营状况和分红持续性。
• 商业模式：公司业绩主要依靠股权融资驱动。需要仔细研究这类驱动力背后的实际情况。

财报体检工具显示：

1. 建议关注公司现金流状况（货币资金/流动负债仅为75.53%）
2. 建议关注公司债务状况（有息资产负债率已达29.45%）
3. 建议关注公司应收账款状况（应收账款/利润已达142.32%）

分析师工具显示：证券研究员普遍预期2024年业绩在2.08亿元，每股收益均值在1.08元。

重仓路维光电的前十大基金见下表：

持有路维光电最多的基金为大成互联网思维混合A，目前规模为13.81亿元，最新净值1.3826（8月27日），较上一交易日下跌1.12%，近一年下跌12.82%。该基金现任基金经理为王帅。

最近有知名机构关注了公司以下问题：

问：请公司的产品工艺流程？技术壁垒情况？

答：公司主要产品掩膜版的工艺流程主要包括 CM 图档处理、光阻涂布、激光光刻、显影、蚀刻、脱膜、清洗、宏观检查、自动光学检查、精度测量、缺陷处理、贴光学膜等环节。以上工艺流程对补偿算法、制程能力、精度水平、缺陷管控具有严格要求，技术壁垒较高。公司在多年的生产制造中已经积累了丰富的经验和技术，建立起自己的技术壁垒。

以激光光刻为例，激光直写光刻作为掩膜版制造的核心工艺，其技术难度主要体现在产品精度控制、Mura 控制等方面。产品精度控制涉及多个环节，不同环节之间又相互影响，包括激光与光阻的匹配、光路结构及稳定性、激光能量曲线及调整、光刻能量及精度补偿、平台与测量系统匹配、二次对位设计与计算等。Mura 控制的影响因素包括光路结构及稳定性、光刻图档设计与匹配、光刻步进调整等。 光刻机厂商提供的设备系标准配置，产品的工艺匹配及指标的最终达成需要技术人员根据不同的产品要求匹配不同的光刻模式。公司通过多年的自主研发与积累，通过研究不同生产环节的特性及相互影响，进行大量 DOE 测试与验证，掌握了不同特性光阻的光刻匹配、光路结构、激光曲线、平台稳定性、精度补偿、图形补偿、光刻步进调整、二次对位等技术方法，形成了多项专有工艺技术和工艺标准，能满足高世代掩膜版、高精度 MOLED 掩膜版、半色调（Half-tone）掩膜版、高精度半导体掩膜版等高端掩膜版产品更为严苛的工艺要求。

以上内容为证券之星据公开信息整理，由智能算法生成，不构成投资建议。