深科达获得发明专利授权：“真空腔室的真空平衡结构”

证券之星消息，根据企查查数据显示深科达（688328）新获得一项发明专利授权，专利名为“真空腔室的真空平衡结构”，专利申请号为CN201910839352.9，授权日为2024年5月17日。

专利摘要：本发明涉及真空贴合的技术领域，公开了真空腔室的真空平衡结构，包括处于真空腔室内的治具板，治具板内设有内腔室；治具板上具有吸合面，吸合面上设置有静电吸片以及真空吸孔，真空吸孔与内腔室连通；治具板上设有连通孔以及平衡孔，连通孔及平衡孔分别连通内腔室及外部，真空发生器通过连接管与连通孔连接；平衡孔上设置有自动平衡结构，内腔室内的压力大于真空腔室内的压力时，自动平衡结构打开平衡孔，内腔室与真空腔室连通；治具板处于真空腔室，内腔室的压力大于真空腔室的压力时，自动平衡结构打开平衡孔，内腔室与真空腔室连通，使内腔室与真空腔室的压力一致，工件的表面没有压差，治具板通过静电吸片吸附工件，实现对工件的固定。

今年以来深科达新获得专利授权14个，较去年同期减少了12.5%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8979.78万元，同比增7.96%。

数据来源：企查查

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