2025年三季报点评：业绩持续增长，平台化布局加速落地

（以下内容从东吴证券《2025年三季报点评：业绩持续增长，平台化布局加速落地》研报附件原文摘录）
中微公司(688012)
投资要点
营收&净利润稳健增长，薄膜产品加速放量。2025前三季度公司营收80.6亿元，同比+46.4%，其中刻蚀设备收入61.01亿元，同比+38.26%，LPCVD和ALD等薄膜设备收入4.03亿元，同比+1332.69%；归母净利润为12.1亿元，同比+32.7%，扣非净利润8.9亿元，同比+9.1%。Q3单季营收31.0亿元，同环比+50.6%/+11.3%；归母净利润为5.1亿元，同环比+27.5%/+28.6%，扣非归母净利润为3.5亿元，同环比+5.4%/+44.8%。
公司毛利率略降，研发投入大幅提升。2025前三季度毛利率为39.1%，同比-3.1pct；销售净利率为14.6%，同比-1.9pct；扣非净利率为11%，同比-3.8pct。期间费用率为29.5%，同比+2.5pct，其中销售费用率为4.0%，同比-1.8pct，管理费用率为3.8%，同比-1.8pct，研发费用率为22.3%，同比+5.7pct，财务费用率为-0.6%，同比+0.5pct。Q3单季毛利率为37.9%，同环比-5.8pct/-0.7pct，主要系新设备确认收入影响；销售净利率为15.95%，同环比-3.3pct/+2.4pct；扣非净利率为11.2%，同环比-4.8pct/+2.6pct。
存货&合同负债持续高增，在手订单充足。截至2025Q3末公司合同负债为43.9亿元，同比+47%；存货为81.9亿元，同比+5%。2025前三季度公司经营性现金流为13亿元，Q3单季为11亿元，同环比大幅提升。
刻蚀产品持续领先，镀膜产品拓展顺利。（1）CCP设备：公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，60比1超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备，量产指标稳步提升，下一代90比1超高深宽比介质刻蚀设备即将进入市场。（2）ICP设备：适用于下一代逻辑和存储客户用ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展。加工的精度和重复性已达到单原子水平。（3）薄膜沉积设备：公司为先进存储器件和逻辑器件开发的LPCVD、ALD等多款薄膜设备已经顺利进入市场，并且设备性能完全达到国际领先水平，薄膜设备的覆盖率不断增加。公司硅和锗硅外延EPI设备已顺利运付客户端进行量产验证，并且获得客户高度认可。在泛半导体设备领域，公司正在开发更多化合物半导体外延设备，已陆续付运至客户端开展生产验证。
盈利预测与投资评级：我们基本维持公司2025-2027年归母净利润预测为24.4/34.1/44.6亿元（原值24.3/34.0/44.5亿元），当前股价对应动态PE分别为76/55/42倍，维持“买入”评级。
风险提示：晶圆厂扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期等。