电子行业研究：日本加入限制半导体设备出口，国产替代逻辑持续强化_股票频道

（以下内容从国金证券《电子行业研究：日本加入限制半导体设备出口，国产替代逻辑持续强化》研报附件原文摘录）
事件
根据日本经济产业省官网、日经新闻网，日本政府3月31日宣布，将修订外汇与外贸法相关法令，将高端半导体制造设备等23种品类列入出口管制对象。
事件解读
23品类产品包括极紫外线(EUV)相关产品的制造设备和使存储元件立体堆叠的蚀刻设备等。按逻辑半导体的性能来看，出口管制的均为制造线路宽度在10～14nm以下的尖端产品所必需的设备，包括3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻/曝光设备、3项刻蚀设备、1项测试设备。该法令将从3月31日至4月29日征求意见，预计在7月施行。
禁令并未明确指定中国等具体国家和地区，但实际上新增的23项设备引入许可申请规定后，除了对其友邦等42个国家和地区会简化手续外，对向中国等国家及地区出口的难度较大。设备制造商需先申请到出口许可，才能将设备向境外运输。该法令设备限制范围也在去年10月7日美国BIS禁令范围之内，符合我们之前的预期，国产替代逻辑持续强化。
投资逻辑
日本半导体设备在涂胶显影、刻蚀、划片以及后道测试等领域具备一定的技术和市场优势。根据SEMI统计的2021年全球前十五大半导体设备企业排名，日本厂商占据了7家，包括东京电子（3）、爱德万（6）、SCREEN（8）、日立高科（10）、迪斯科（11）、尼康（13）、Kokusai Electric（14）。此次禁令影响到10多家日本半导体设备公司，包括刻蚀设备、涂胶显影设备龙头东京电子、曝光设备厂商尼康、清洗设备龙头SCREEN、测试设备龙头爱德万等。国内对标公司有望受益：国内涂胶显影机龙头芯源微；清洗设备厂商盛美上海、至纯科技；薄膜沉积国内龙头拓荆科技（PECVD）和北方华创（PVD）；刻蚀设备龙头北方华创、中微公司，以及后道测试优秀国产供应商长川科技、华峰测控等。此前3月8日荷兰光刻机大厂ASML通过官网发布了《关于额外出口管制的声明》称，其TWINSCA NNXT：2000i及之后的浸没式光刻系统都将受到限制。对于中国半导体产业而言，荷兰、日本相继加入美国的半导体对华限制政策，后续先进制程设备依赖国产厂商突破。同时限制设备的型号目前对国内成熟制程的发展影响相对较小，但在当前贸易背景下，成熟制程设备国产化率有望继续提升。
投资建议
我们看好今年订单增长弹性相对较高、确定性高、国产化率仍较低的细分领域设备龙头芯源微、精测电子、拓荆科技，以及中微公司、北方华创、华海清科等设备厂商。
风险提示
晶圆厂资本开支不及预期、半导体周期风险、美国制裁升级、设备国产化进展不及预期。